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Dragonfly G3 系統(tǒng)正在重新定義業(yè)界對吞吐量、精度和可靠性的期望。該系統(tǒng)融合了 2D 和 3D 技術(shù),能夠檢測降低良率的缺陷,并測量對當(dāng)今半導(dǎo)體技術(shù)至關(guān)重要的特征。該系統(tǒng)集成了多種 3D 計(jì)量功能,包括薄膜厚度和結(jié)構(gòu)輪廓測量以及基板厚度測量,從而提供了更高的靈活性。它采用新的 3Di 技術(shù),可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的凸點(diǎn)高度計(jì)量。Dragonfly G3 系統(tǒng)可選配 EB40 模塊進(jìn)行邊緣和背面檢測,為前端和后端 OQA 提供全表面檢測解決方案。
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產(chǎn)地 |
美國 |
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技術(shù) |
2D 和 3D |
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檢測系統(tǒng) |
圖案 |
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選配模塊 |
EB40 |
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成像 |
線掃描 |
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檢測等級 |
亞微米級 |
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照明通道 |
明場、暗場、高速紅外照明、Clearfind 技術(shù) |
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市場 |
封裝、CMOS技術(shù)、特種產(chǎn)品 |
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計(jì)量功能 |
3D |
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凸點(diǎn)高度計(jì)量功能 |
3Di 技術(shù) |
重分布層 (RDL):顯影后、蝕刻后
重構(gòu)和鍵合晶圓
微凸塊和銅柱
鋸切后
凝膠和華夫格包裝檢測
探針檢測后
OQA(出廠質(zhì)量保證)